原液Zeta电位分析仪用于CMP过程中颗粒电荷对材料去除率影响的检测
原液高浓度Zeta电位分析仪用于化学机械抛光(CMP)过程中颗粒电荷对材料去除率影响的检测在宏观尺度长度下,抛光过程中的材料去除率(dh/dt)被普雷斯顿方程描述为:dh/dt=kpσoVr,其中kp是普雷斯顿系数,σo是施加的压力,Vr是抛光颗粒相对于工件表面的平均速度。然而,光学抛光过程涉及工件、浆料和搭接之间在多个尺度长度上的一系列复杂的相互作用。因此,普雷斯顿系数代表了众多抛光参数的集合,包括工件材料、浆料颗粒组成、浆料粒度分布(PSD)、浆料化学、焊盘形貌和焊盘机械...电话
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